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日本仓敷 Kurashiki Kako PSB-D 被动隔振装置依托复合弹性隔振与内置阻尼协同技术，构建精密设备的振动防护核心体系，实现宽频振动的高效衰减。其采用 “弹性元件 + 阻尼器” 一体化设计，弹性主体选用高弹性天然橡胶与金属夹层复合结构，通过分子链优化使静态压缩量可在 5-25mm 范围内精准调控，配合定制化刚度设计，能针对 5-200Hz 的振动频率形成共振抑制，隔振效率达 90% 以上，较普通橡胶隔振器提升 50%。内置的油阻尼器采用粘性阻尼原理，通过活塞在阻尼油中运动产生的粘滞阻力，快速吸收冲击能量，可将瞬时冲击振动的衰减时间缩短至 0.3 秒以内，有效避免精密设备因冲击产生的位移偏移。针对不同负载需求，单台装置额定承载范围覆盖 50-5000N，且支持多台组合使用，形成三维空间的全方位隔振防护。
该隔振装置采用高刚性结构与耐候性材质组合，奠定复杂环境稳定运行基础。主体框架选用 SUS304 不锈钢材质，经精密焊接与表面钝化处理，抗腐蚀性能优异，可适应实验室、半导体洁净车间等不同环境；弹性元件表面覆盖耐油、耐老化的氟橡胶涂层，在 - 30℃-80℃的宽温域内保持弹性稳定，无脆裂或蠕变现象，使用寿命超 10 年。结构设计兼顾安装便捷性与稳定性，顶部与底部均配备标准化安装孔位，兼容螺栓固定与粘接固定两种方式，安装平面度误差允许范围达 ±0.5mm；内置水平调节机构，通过调节螺栓可微调装置水平度，确保设备安装后的水平精度≤0.1mm/m。此外，装置整体高度仅 80-150mm（根据承载规格），体积紧凑，可嵌入设备底座与地面之间，不占用额外空间。
凭借高效隔振与高适配性，PSB-D 已广泛应用于半导体设备、精密仪器、医疗影像等高端领域。在半导体光刻机中，多台 PSB-D 组合使用，可有效隔离地面传来的 5-100Hz 振动，将光刻机工作台的振动位移控制在 ±2nm 以内，保障光刻线宽精度；在电子显微镜中，其快速冲击衰减特性可吸收设备运行及周边环境的瞬时振动，使电子束成像的清晰度提升 40%，满足纳米级观测需求；在医疗 MRI 核磁共振设备中，通过抑制环境振动对磁场的干扰，可将影像分辨率提升至 0.1mm，提高病灶诊断的准确性。此外，该装置通过 SEMI S2 认证，适配半导体洁净车间的严苛要求，与同系列 PSB-A（标准型）、PSB-S（小型）形成负载梯度覆盖，可根据设备重量（从几十公斤到数吨）灵活配置，部分型号支持定制低磁导率版本，适配磁敏感设备的隔振需求。
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